TAIFUN-CLEAN® COMPACT 180

Druckluftunterstützter Ringionsator für 3D Bauteile, Ø 180 mm

KIST + ESCHERICH TAIFUN-CLEAN COMPACT 180

Alles auf einen Blick

  • Kompaktes Reinigungssystem

    für die Integration in neue und bestehende Anlagen

  • Berührungslose Reinigung mit pulsierender Druckluft
  • Hohe Reinigungstiefe

    durch spezielle Druckluftdüsen mit Strahlbündelung

  • Für strukturierte Bauteile

    und komplexe Bauteilgeometrien

  • TAIFUN-CLEAN® COMPACT 180 ist durch seine runde Bauform perfekt an die TAIFUN-CLEAN® Rotationsdüsen angepasst. Die symmetrische Anordnung der Emitterspitzen erzeugen gleichmäßige Ionenwolken.

    • Anpassung an komplex geformte Bauteile durch die Verwendung mehrerer TAIFUN-CLEAN® COMPACT Module
    • Schonung der Materialoberfläche durch kontaktlose Reinigung
    • Integrierte Ionisation zur Beseitigung elektrostatischer Oberflächenladungen
    • Ionisationssysteme für Benutzer berührungssicher
    • Stabile druckunabhängige Drehzahl durch patentierte, integrierte Regelung
    • Air flow Version: Offene Bauweise für den Einsatz im Laminarluftstrom
    • Option: Drehzahlüberwachung
    • Weitere Ausführungen verfügbar: CR
  •  TCC180TCC180CRTCC180AF
    Arbeitsbreite160 mm160 mm160 mm
    Arbeitsabstand (min. – max.)20-70 mm20-70 mm20-70 mm
    Typ RotationsdüseTCR-7A-130TCR-7A-130-VATCR-7A-130
    Betriebsluftdruck Reinigung (empfohlen)1,5 - 3,5 bar1,5 - 3,5 bar1,5 - 3,5 bar
    Betriebsluftdruck Reinigung (min. – max.)1,0 - 5,0 bar1,0 - 5,0 bar1,0 - 5,0 bar
    Typ Druckluftanschluss ReinigungØ 10 mmØ 10 mmØ 10 mm
    Typ Ionisation1x SR55-1781x SR55-1781x SR55-178
    Einsatztemperatur (min. – max.)5-50 °C5-50 °C5-50 °C
    Gewicht2,0 kg2,0 kg2,0 kg
    Förderrichtung (uni-/bi-/multidirektional)multidirektionalmultidirektionalmultidirektional
  •  Nl/min bei Arbeitsdruck
     1,0 bar2,0 bar 3,5 bar 
    TCC180-03160250400

TechnologieTAIFUN-CLEAN®

Wo andere an Grenzen stoßen, beginnt TAIFUN-CLEAN®. Möchten Sie mehr über die Technologie hinter unserem Produkt erfahren? 

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