STATIK-AIR® MULTIJET SIP

Druckluftunterstützte Multiionisation für ESD-Anwendungen

KIST + ESCHERICH STATIK-AIR MULTIJET SIP

Alles auf einen Blick

  • Multiionisator

    für die Integration in bestehende Anlagen

  • Hochfrequenz-Technologie sorgt für optimal angepasste Entladungsleistung
  • ESD-konform: Offset-Spannung permanent kleiner 35V gemäß Norm DIN EN 61340-5-1:2016
  • Druckluftunterstützter Ionentransport

    zur Reichweitenerhöhung bei minimalem Druckluftverbrauch

  • Das Entlade- und -Reinigungssystem für ESD-sensitive Applikationen, garantiert durch die Verwendung von Hochfrequenz-Technologie eine extrem geringe Restladung (Offset-Spannung). 

    • Berührungslose Reinigung mit hoher Wirktiefe
    • Kleine Ausführung für beengte Platzverhältnisse
    • Optische Funktions- und Fehleranzeige über LED-Zustandsanzeige
    • Statussignal für externe Funktionsüberwachung
    • Schonung der Materialoberfläche durch kontaktlose Reinigung
    • Berührungssicher für Benutzer 
    • Werkzeuglose Steckerkontaktierung
  •  SAM-SIP
    AusführungESD-Anwendungen
    Arbeitsabstand (min. – max.)20-100 mm
    Betriebsluftdruck Reinigung (empfohlen)1,0-6,0 bar
    Betriebsluftdruck Reinigung (min. – max.)1,0-6,0 bar
    Typ Druckluftanschluss ReinigungØ 10 mm
    Typ IonisationSIP-INT
    Betriebsluftdruck Ionisation (empfohlen)1,0 - 2,0 bar
    Betriebsluftdruck Ionisation (min. – max.)0,5 - 3,0 bar
    Typ Druckluftanschluss IonisationØ 6 mm
    Einsatztemperatur (min. – max.)0 - 55 °C
    Gewicht290 g
    Förderrichtung (uni-/bi-/multidirektional)bidirektional
  • KIST + ESCHERICH Technische Zeichnung STATIK-AIR MULTIJET SI
  • Druckluftverbrauch Reinigung

    TypNl/min bei Arbeitsdruck
     1,0 bar2,0 bar 3,0 bar4,0 bar 5,0 bar6,0 bar
    SAM-SIP170270370470570670

     

    Druckluftverbrauch Ionisation

    TypNl/min bei Arbeitsdruck
     0,5 bar1,0 bar2,0 bar3,0 bar
    SAM-SIP385996130

TechnologiePRECISION

Wo es auf höchste Genauigkeit und ESD-Sensibilität ankommt, liefert PRECISION perfekte Ergebnisse. Erfahren Sie mehr über die innovative Technologie dahinter.

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